Завод ежегодно участвует в различных выставках, ярмарках, на которых не только рекламируются изделия завода, но и заключается большое количество договоров на поставку продукции.

4.4.ЦЕНЫ  И ЦЕНОВАЯ ПОЛИТИКА

 

       Основные  направления ценовой политики завода ориентируются на обеспечение рентабельности завода, высокого качества продукции, рыночный спрос и конкуренцию, сохранение и увеличение рыночной доли продукции. Применение различных методов стимулирования продаж способствует увеличению их объема. К таким методам можно отнести применение системы скидок на товары, снижение цен при покупке большого количества товаров  С целью стимулирования сбыта применяется гибкая система цен на продукцию в зависимости от объема поставок и формы оплаты.

       В среднем цены на большинство видов  продукции у завода ниже цен конкурентов в странах СНГ. Таким образом, при прочих равных условиях, продукция данного завода наиболее доступна потребителю, а, следовательно, предпочтительна. 
 
 
 
 
 
 
 
 
 

5. ПЛАН ПРОИЗВОДСТВА  ПРОДУКЦИИ

 

      При разработке плана производства продукции необходимо составить рациональную схему производства биполярного транзистора, определить производственную мощность оборудования, его рабочее время; определить потребность в ресурсах; амортизационные отчисления; составить смету общепроизводственных расходов и статей калькуляции.

  

1. ТЕХНОЛОГИЧЕСКАЯ СХЕМА ПРОИЗВОДСТВА БИПОЛЯРНОГО  ТРАНЗИСТОРА

 

       Технологический процесс производства биполярного  транзистора включает следующие  стадии:

1. выращивание монокристаллов кремния;
2. резка слитка на пластины;
3. шлифовка пластин;
4. полировка пластин;
5. создание на поверхности кремния пленки доиксида кремния;
6. эпитаксиальное наращивание n-Si, термическое окисление I;
7. фотолитография I, вскрытие окон в SiO₂ I;
8. диффузия мышьяка I, создание коллекторного p-n-перехода;
9. контроль качества поверхности пластины (измерение удельного и поверхностного сопротивления, толщины слоев);
10. химическая обработка и сушка пластин;
11. термическое окисление II, фотолитография II, вскрытие окон в SiO₂ II;
12. диффузия бора II, создание базовой области;
13. контроль качества поверхности пластины;
14. химическая обработка и сушка пластин;
15. термическое окисление III, фотолитография III со вскрытием окон в слое SiO₂ III;
16. диффузия фосфора III, создание эммитерного p-n-перехода;
17. контроль качества поверхности пластины;
18. химическая обработка и сушка пластин;
19. фотолитография IV со вскрытием окон в слое SiO₂ IV;
20. металлизация  алюминия;
21. формирование диэлектрических слоев;
22. нанесение токопроводящих пленок;
23. проверка внешнего вида транзистора;
24. контроль ОТК, упаковка.

2. ОСНОВНЫЕ  ВИДЫ ОБОРУДОВАНИЯ

 

       Для осуществления процесса химической обработки пластин используются установки химической обработки, отмывки и сушки, установка обеспыливания типа «Лада», для осуществления процесса диффузии – установка ионно-лучевая «Везувий-5», автоматическая диффузионная система АДС 6-100, система диффузионная однозонная многотрубная СДОМ-3/100, для сушки – центрифуги, для нанесения пленки SiO₂ – установка ДР.146-98 НОТ. Для контроля качества пластин используют микроскопы МБС-9 и ММУ-3, установка для измерения толщины полупроводниковых слоев, измеритель удельного сопротивления Я5М3.439.000., установка удельного сопротивления полупроводниковых материалов Я5М3.410.041., устройство зондовое Я5М3.568.005..

5.3. БАЛАНС  ПРОИЗВОДСТВЕННЫХ МОЩНОСТЕЙ ПРЕДПРИЯТИЯ

 

       Производственная мощность оборудования (М) определяется по формуле:

                       М = Тэ*N*n,                                                             (5.1.)

где N – часовая производительность оборудования, Тэ – эффективный фонд времени работы оборудования в год, n – число единиц оборудования.

      Для определения эффективного фонда  времени работы оборудования составляется баланс рабочего времени оборудования (см. табл.5.1.).  

       Баланс  рабочего времени оборудования

Баланс должен быть приведен и в часах

Номинальный фонд рабочего времени: Т_ном = 365-113=252 дня;

Эффективный фонд времени Тэ = 365-113-4-6=242 дня;

Коэффициент использования  оборудования по времени Ки = 242/365=0,66.

       Коэффициент использования производственной мощности (К) определяется по уравнению:

                       К = В/Мср ,                                                             (5.2.)

где В – плановый выпуск продукции за год в натуральном  выражении, Мср – среднегодовая  производственная мощность всего оборудования.

      Данные  по расчету баланса производственных мощностей  предприятия приводится в табл. 5.2. 
 
 
 
 
 

       Баланс  производственных мощностей 

       Таблица 5.2. 

 

       Согластно формуле (5.2.) коэффициент использования  производственной мощности (К) равен:

                                 К= 62000 / 71350 = 0,87

       Таким образом можно сделать вывод о том, что предприятие имеет  запас мощности, и при  увеличении емкости рынка, оно может увеличить объём производства продукции, а значит и размер получаемой прибыли. 

       Расчет  производства продукции данного  предприятия приведен в табл.5.3.

План  производства продукции

Табл. 5.3.

5.4. РАСЧЕТ ПОТРЕБНОСТИ В МАТЕРИАЛЬНЫХ РЕСУРСАХ,          ТОПЛИВЕ И ЭНЕРГИИ

 

      В данном случае необходимо осуществлять расчет потребности в материальных  ресурсах, топливе, энергии. Результаты данного расчета приведены в табл.5.4..

       Расчет  потребности в материальных ресурсах.

Таблица 5.4. 

 
 

 

       В данной табл.5.4.столбец 4 получен путем  произведение столбца 2 на столбец 3.

5.5. ПЛАНИРОВАНИЕ  ЗАТРАТ НА ПРОИЗВОДСТВО И РЕНТАБЕЛЬНОСТЬ ПРОДУКЦИИ